一、KDH-500真空電弧爐設(shè)備用途 ：

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、KDH-500真空電弧爐設(shè)備組成：

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測(cè)量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成。

三、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號(hào)： KDH-500

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、具有熔煉與吸鑄功能，吸鑄模具與水冷模具套滑配，保證冷卻效果的同時(shí)，拆卸方便

4、真空系統(tǒng)配置：飛越直聯(lián)泵、TK-150擴(kuò)散泵、三臺(tái)氣動(dòng)擋板閥和各種管路

5、冷態(tài)極限真空度 ≤5.0x10E-3Pa

6、熔煉電流：額定電流≤500A

7、電弧熔煉水冷坩堝：五個(gè)工位；其中有一工位用于吸鑄，容重（樣品重量）5-100(克）/熔煉池，一個(gè)長(zhǎng)條工位容重（樣品重量）20~120(克；1~2個(gè)磁攪拌工位，攪拌可切換

8、攪拌方式：手動(dòng)懸臂翻料，有機(jī)械手翻轉(zhuǎn)組件；

9、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡(jiǎn)便有效；電極桿電動(dòng)升降，操作便攜。

10·爐體側(cè)部開(kāi)門(mén)，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便，門(mén)上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。

11，真空系統(tǒng)獨(dú)立安裝，方便拆卸并便于和其他真空設(shè)備對(duì)接，一套多用。

12、工作氣體：Ar氣；

13、冷卻方式：水冷，水壓保護(hù)，含自動(dòng)報(bào)警；