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簡要描述：用于 富勒烯，碳納米烯，石墨烯等納米材料的研發(fā)制備生產(chǎn)等使用，也廣泛應用于熔煉高熔點金屬/合金，以及材料的提純等
更新時間：2024-09-17廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家訪 問 量：2226KDH-2000自耗真空電弧爐熔煉爐
一、設備用途 ：
用于 富勒烯，碳納米烯，石墨烯等納米材料的研發(fā)制備生產(chǎn)等使用，也廣泛應用于熔煉高熔點金屬/合金，以及材料的提純等
二、設備主要技術參數(shù)：
1、型號： KDH-2000
2、電弧熔煉室：臥式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置：由2X-30旋片式機械泵、TK-200擴散泵、三臺高真空閥門和各種管路組成高真空系統(tǒng)真空度可達6.7*10-3pa
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.7x10E-3Pa
5、自耗電流：額定電流2000A（電源客戶自備）
6、熔煉工位： 兩工位安裝在同一真空腔室，可獨立工作
7、工作氣體：Ar氣；
8、電極升降方式：伺服電動升降
9、電極升降速度：慢速升降速度：0~60mm/min
快速升降速度：0-300mm/min
10、引弧方式：高頻引弧
11、爐體側(cè)部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，爐體上有兩個觀察視窗。可清楚看到爐內(nèi)工作情況，
